Substratverarbeitungsverfahren und Substratverarbeitungssystem

EP4564399 Art A1 4. Juni 2025

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4564399
Aktenzeichen: EP23846649
Anmeldetag: 28. Juli 2023
Veröffentlichung: 4. Juni 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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