Einbrennstrategien zur Verbesserung der Lithografischen Leistung eines Metallhaltigen Resists

EP4567518 Art A3 22. Oktober 2025

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4567518
Aktenzeichen: EP25172399
Anmeldetag: 24. Juni 2020
Veröffentlichung: 22. Oktober 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/26G03F7/36G03F7/004G03F7/16G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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