Auf Bereichsdichte Basierender Fehlausrichtungsindex zur Bildausrichtung

EP4569471 Art A1 18. Juni 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4569471
Aktenzeichen
EP23750943
Anmeldetag
27. Juli 2023
Veröffentlichung
18. Juni 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G06T7/00G06T7/32G06T7/33G01R31/303
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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