Verfahren zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht, Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung, Vorrichtung zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht
EP4575032
Art A1
25. Juni 2025
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4575032
- Aktenzeichen
- EP23219125
- Anmeldetag
- 21. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/02C23C16/04C23C16/455C23C16/48C30B25/00H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven