Verfahren zur Herstellung einer Nanofolie aus Schichtmaterial, Schichtförmige MOS2-Nanofolie und Schichtgraphit-Nanofolie
EP4582386
Art A1
9. Juli 2025
Anmelder: Tohoku University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4582386
- Aktenzeichen
- EP22957419
- Anmeldetag
- 31. August 2022
- Veröffentlichung
- 9. Juli 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01G39/06B82Y30/00B82Y40/00C01B32/19C01B17/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tohoku University
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tohoku University
Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Plasseraud IP
Plasseraud IP · Paris