Substratverarbeitungsverfahren und Substratverarbeitungssystem

EP4589385 Art A1 23. Juli 2025

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4589385
Aktenzeichen: EP23865488
Anmeldetag: 11. September 2023
Veröffentlichung: 23. Juli 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/26H01L21/027H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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