System zur Messung von Wellenfrontaberrationen und Belichtungsvorrichtung

EP4600738 Art A2 13. August 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4600738
Aktenzeichen
EP25184990
Anmeldetag
24. Juni 2025
Veröffentlichung
13. August 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

A wavefront aberration measurement system for determining aberrations of a projection system is described, the system comprising: a first 2 dimensional grating, a second 2 dimensional grating, a radiation source configured to irradiate the first 2 dimensional grating, and a detector configured to detect radiation from the radiation source having in sequence interacted with the first 2 dimensional grating, the projection system and the second 2 dimensional grating and The system further comprises a control device configured to perform phase stepping by moving the first 2 dimensional grating and the second 2 dimensional grating in respect of each other along a diagonal of the first 2 dimensional grating and the second 2 dimensional grating with an alignment phase difference between the X-direction and the Y-direction, thereby obtaining detector data.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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