System und Verfahren zum Entwurf und zur Erzeugung einer Lithografiemaske

EP4607272 Art A1 27. August 2025

Anmelder: Lace Lithography AS 🇳🇴

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4607272
Aktenzeichen
EP24382178
Anmeldetag
20. Februar 2024
Veröffentlichung
27. August 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/36G03F1/50G03F7/00G03F7/20G03H1/00G03H5/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Lace Lithography AS
Land
🇳🇴 Norwegen

Fachgebiete

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