LIGL IP Consult AS
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Standorte
1Aktuelle Patente
59 gesamt| Patent | |||
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13.05.2026 · Vestlandets Innovasjonsselskap AS
Verfahren und System zur Erzeugung von Lithographiemustern
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Zusammenfassung
A lithography pattern generation system (1) and method comprising - an incoming particle beam (21) with a most probable wavelength (λ) from a particle source (2) and - a mask (4) comprising through holes (3) arranged in the incoming particle beam (21). The lithography pattern generation system (1) generates a single nanometre feature size pattern (51) and wherein the through holes (3) are arranged non-periodically in the mask. A computer implemented method for generating a lithography mask (4) model is also disclosed. |
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18.02.2026 · Pictorytale AS
Personalisierte Darstellung und Animation von Humanoiden Zeichen
EP4695664
Software & Datenverarbeitung
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18.02.2026 · Vestlandets Innovasjonsselskap AS
Verfahren und System zur Erzeugung von Lithographiemustern
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14.01.2026 · Halliburton Energy Services, Inc.
Inline-Durchflussmessersensorvorrichtung, Inline-Durchflussmesser und Verfahren zur Echtzeitüberwachung eines Volumetrischen Fluidverhältnisses
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Status
Angemeldet am 20.09.2022
Erteilt am 14.01.2026
Vertretung
Withers & Rogers · München
LIGL IP Consult AS · Oslo
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12.11.2025 · Mont Invest 30 AS
Pedalgetriebenes Mehrganggetriebesystem
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29.10.2025 · Digifarm AS
Verfahren und Systeme zur Bestimmung der Nachhaltigkeit von Landwirtschaftlichen Feldern, Landwirtschaftlichen Feldern und Anderen Vegetationsbereichen
EP4639496
Software & Datenverarbeitung
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15.10.2025 · Sleipner Motor AS
Schiffsstabilisator
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17.09.2025 · Lace Lithography AS
Teilchenstrahl-Geschwindigkeitsformer und Verfahren zur Formung der Geschwindigkeit eines Teilchenstrahls
EP4618108
Elektrische Energietechnik
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Zusammenfassung
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17.09.2025 · Lace Lithography AS
Teilchenstrahl-Geschwindigkeitsquetscher und Verfahren zum Geschwindigkeitsquetschen eines Teilchenstrahls
EP4618107
Elektrische Energietechnik
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27.08.2025 · Lace Lithography AS
System und Verfahren zum Entwurf und zur Erzeugung einer Lithografiemaske
EP4607272
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
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Patente nach Jahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung: so viele Anmeldungen sind für das Jahr insgesamt zu erwarten.