Defektidentifizierung und -Segmentierung ohne Markierte Daten und Bildqualitätsverbesserung

EP4607460 Art A3 22. Oktober 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4607460
Aktenzeichen
EP25171538
Anmeldetag
21. April 2025
Veröffentlichung
22. Oktober 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G06T7/00G06T7/11
Offizieller Volltext

Abstract

An apparatus for identifying defects on a wafer under inspection includes a memory storing a set of instructions and at least one processor configured to execute the set of instructions to cause the apparatus to perform: operations including: acquiring a set of labeled images, wherein the set of labeled images includes: a first set of images generated by a generative model trained on input images, a conditioning mask, and conditioning parameters, wherein the conditioning mask and the conditioning parameters are associated with a defect; the input images; and the conditioning mask; and training a segmentation model, using the set of labeled images, to predict the defect in a second set of images.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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