Defektidentifizierung und -Segmentierung ohne Markierte Daten und Bildqualitätsverbesserung
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4607460
- Aktenzeichen
- EP25171538
- Anmeldetag
- 21. April 2025
- Veröffentlichung
- 22. Oktober 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G06T7/00G06T7/11
Abstract
An apparatus for identifying defects on a wafer under inspection includes a memory storing a set of instructions and at least one processor configured to execute the set of instructions to cause the apparatus to perform: operations including: acquiring a set of labeled images, wherein the set of labeled images includes: a first set of images generated by a generative model trained on input images, a conditioning mask, and conditioning parameters, wherein the conditioning mask and the conditioning parameters are associated with a defect; the input images; and the conditioning mask; and training a segmentation model, using the set of labeled images, to predict the defect in a second set of images.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven