Resistzusammensetzung für Photolithographie und Verfahren zur Herstellung von Halbleiterelementen unter Verwendung Derselben

EP4610726 Art A3 1. Oktober 2025

Anmelder: Korea University Research and Business Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4610726
Aktenzeichen: EP25155385
Anmeldetag: 31. Januar 2025
Veröffentlichung: 1. Oktober 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea University Research and Business Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea University Research and Business Foundation

Südkoreanische Einrichtung, die Forschungsprojekte und Technologietransfer der Korea University verwaltet, patentiert Ergebnisse aus universitärer Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin und überführt sie in Anwendungen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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