Optik zur Messung von Dickschichten und Strukturen mit Hohem Aspektverhältnis
EP4619733
Art A1
24. September 2025
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4619733
- Aktenzeichen
- EP24823939
- Anmeldetag
- 5. Juni 2024
- Veröffentlichung
- 24. September 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/21G01N21/25G01N21/88G01N21/95G01N21/956G01B11/06H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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