Autofokusverfahren für Einstrahl- und Mehrstrahlsysteme
EP4620016
Art A1
24. September 2025
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4620016
- Aktenzeichen
- EP24819814
- Anmeldetag
- 31. Mai 2024
- Veröffentlichung
- 24. September 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/21H01J37/22H01J37/28G01N23/2251
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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