Verfahren zum Erzeugen mindestens einer Hohlstruktur, Spiegel und Euv-Lithographiesystem

EP4621465 Art A3 7. Januar 2026

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4621465
Aktenzeichen: EP25194795
Anmeldetag: 13. Dezember 2022
Veröffentlichung: 7. Januar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: B23K26/55G02B7/195

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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