Bildung eines Referenzbestrahlungmusters auf einem Detektor

EP4632483 Art A1 15. Oktober 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4632483
Aktenzeichen: EP24169424
Anmeldetag: 10. April 2024
Veröffentlichung: 15. Oktober 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00H04N23/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Nachrichtentechnik & Telekommunikation Optik & Fototechnik

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