Verfahren zur Erzeugung eines Projektionsmusters aus mehreren Projektionen eines Substrattisches

EP4639613 Art A1 29. Oktober 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4639613
Aktenzeichen: EP23806340
Anmeldetag: 20. November 2023
Veröffentlichung: 29. Oktober 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/687G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von