Aufnahme und Platzierung auf Aussparungsbasis für Heterogene Integration
EP4643376
Art A1
5. November 2025
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4643376
- Aktenzeichen
- EP23817150
- Anmeldetag
- 1. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 5. November 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/67H01L21/677
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven