Fotomaskenrohling und Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske

EP4650870 Art A3 24. Dezember 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4650870
Aktenzeichen: EP25174600
Anmeldetag: 6. Mai 2025
Veröffentlichung: 24. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/32G03F1/80

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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