Substratverarbeitungsverfahren und Substratverarbeitungssystem

EP4651182 Art A1 19. November 2025

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4651182
Aktenzeichen
EP24747270
Anmeldetag
22. Januar 2024
Veröffentlichung
19. November 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Kanzlei
Venner Shipley LLP

Venner Shipley entstand 1947 aus einer Patentagentur der 1930er-Jahre; durch Fusionen reichen ihre Wurzeln bis in die 1880er zurück. Als europäische Full-Service-IP-Kanzlei ist sie neben Großbritannien auch in Madrid und München vertreten.

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