Positionsmesssystem und -Verfahren, Substratstufensystem und Belichtungsvorrichtung
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4660702
- Aktenzeichen
- EP25207681
- Anmeldetag
- 9. Oktober 2025
- Veröffentlichung
- 10. Dezember 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00
Abstract
The present disclosure provides an object stage system, comprising: a balance mass having a top surface, a bottom surface, and one or more side surfaces; at least one object table movable with respect to said top surface; at least one object table follower movable with respect to a side of the balance mass and supporting a cable slab connected to a corresponding object table; a first position measurement system for measuring a first position of the at least one object table relative to the top surface in six degrees of freedom, and a second position measurement system for measuring a second position of the object table follower relative to the balance mass in six degrees of freedom.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven