Positionsmesssystem und -Verfahren, Substratstufensystem und Belichtungsvorrichtung

EP4660702 Art A2 10. Dezember 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4660702
Aktenzeichen
EP25207681
Anmeldetag
9. Oktober 2025
Veröffentlichung
10. Dezember 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

The present disclosure provides an object stage system, comprising: a balance mass having a top surface, a bottom surface, and one or more side surfaces; at least one object table movable with respect to said top surface; at least one object table follower movable with respect to a side of the balance mass and supporting a cable slab connected to a corresponding object table; a first position measurement system for measuring a first position of the at least one object table relative to the top surface in six degrees of freedom, and a second position measurement system for measuring a second position of the object table follower relative to the balance mass in six degrees of freedom.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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