System zur Speicherung und Abgabe von Zielmaterial für eine Euv-Strahlungsquelle
EP4665520
Art A1
24. Dezember 2025
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4665520
- Aktenzeichen
- EP24703722
- Anmeldetag
- 1. Februar 2024
- Veröffentlichung
- 24. Dezember 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B22C9/08B22D11/119B22D23/00B22D35/00B22D39/02B22D39/06B22D43/00G03F7/00H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven