Lasersystem und Verfahren zur Erzeugung von Sekundärstrahlung durch Wechselwirkung eines Primärlaserstrahls mit einem Targetmaterial

EP4666121 Art A1 24. Dezember 2025

Anmelder: TRUMPF Laser GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4666121
Aktenzeichen: EP24705425
Anmeldetag: 13. Februar 2024
Veröffentlichung: 24. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G02B17/06G02B19/00H01S3/00H05G2/00G02B27/09

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TRUMPF Laser GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Trumpf Laser

Trumpf Laser ist ein deutsches Unternehmen der Trumpf-Gruppe für industrielle Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente, Werkzeug- und Fertigungstechnik sowie Optik, ergänzt durch Mess- und Schaltungstechnik. Die Titel betreffen unter anderem die Erzeugung ultrakurzer Laserpulse und Laserschweißverfahren.

283 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von