Gaseinlass für einen Cvd-Reaktor
EP4669785
Art A1
31. Dezember 2025
Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4669785
- Aktenzeichen
- EP24707479
- Anmeldetag
- 23. Februar 2024
- Veröffentlichung
- 31. Dezember 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/455
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Aixtron SE
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Aixtron
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
303 Patente in unserer Datenbank