Flüssigkeitshandhabungssystem und Verfahren zur Reduzierung von Defekten Aufgrund von auf einem Substrat Verbleibender Flüssigkeit und Lithografische Vorrichtung mit dem Flüssigkeitshandhabungssystem

EP4670008 Art A1 31. Dezember 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4670008
Aktenzeichen: EP24701235
Anmeldetag: 23. Januar 2024
Veröffentlichung: 31. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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