Reflektierender Fotomaskenrohling und Verfahren zur Herstellung einer Reflektierenden Fotomaske
EP4682630
Art A1
21. Januar 2026
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4682630
- Aktenzeichen
- EP25185476
- Anmeldetag
- 26. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 21. Januar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24G03F1/26G03F1/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München