Substratträger, Verfahren zum Laden eines Substrats auf einen Substratträger und Lithographische Vorrichtung

EP4682947 Art A1 21. Januar 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4682947
Aktenzeichen: EP24189650
Anmeldetag: 19. Juli 2024
Veröffentlichung: 21. Januar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/687G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von