Maskenrohlingsubstrat und Verfahren zur Herstellung davon
EP4685557
Art A3
11. März 2026
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4685557
- Aktenzeichen
- EP25191375
- Anmeldetag
- 23. Juli 2025
- Veröffentlichung
- 11. März 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/22G03F1/24G03F1/60
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München