Verfahren zur Bestimmung einer Korrektur Und/oder Abschwächung für eine Lithografische Belichtung und Zugehörige Vorrichtung

EP4685559 Art A2 28. Januar 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4685559
Aktenzeichen: EP25221429
Anmeldetag: 8. Dezember 2025
Veröffentlichung: 28. Januar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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