Verfahren zur Modellierung von Metrologiedaten über einen Substratbereich und Zugehörige Vorrichtungen
EP4689804
Art A1
11. Februar 2026
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4689804
- Aktenzeichen
- EP24707217
- Anmeldetag
- 28. Februar 2024
- Veröffentlichung
- 11. Februar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven