Verfahren und Lasersystem zur Erzeugung von Sekundärstrahlung

EP4691187 Art A1 11. Februar 2026

Anmelder: TRUMPF Laser SE, TRUMPF Laser AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4691187
Aktenzeichen: EP24715538
Anmeldetag: 26. März 2024
Veröffentlichung: 11. Februar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TRUMPF Laser SE
TRUMPF Laser AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Trumpf Laser

Trumpf Laser ist ein deutsches Unternehmen der Trumpf-Gruppe für industrielle Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente, Werkzeug- und Fertigungstechnik sowie Optik, ergänzt durch Mess- und Schaltungstechnik. Die Titel betreffen unter anderem die Erzeugung ultrakurzer Laserpulse und Laserschweißverfahren.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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