Systeme, Verfahren und Computersoftware zur Verstärkung und Steuerung von Licht zur Verwendung in Lithografischen Vorrichtungen

EP4692921 Art A2 11. Februar 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4692921
Aktenzeichen: EP25221876
Anmeldetag: 9. Dezember 2025
Veröffentlichung: 11. Februar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: G02F1/35G02F1/365

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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