Trennmembran und Verfahren zur Herstellung davon

EP4696404 Art A1 18. Februar 2026

Anmelder: Hiroshima University, SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4696404
Aktenzeichen: EP24788539
Anmeldetag: 22. März 2024
Veröffentlichung: 18. Februar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: B01D71/70B01D69/10B01D69/12B01D71/02B01D71/62C08G77/26C08L83/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Hiroshima University
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von