Verfahren zur Herstellung eines Schichtprodukts aus Ss-GA2O3/?-GA2O3 und mit Diesem Herstellungsverfahren Hergestelltes Schichtprodukt
EP4703501
Art A1
4. März 2026
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4703501
- Aktenzeichen
- EP24796954
- Anmeldetag
- 22. April 2024
- Veröffentlichung
- 4. März 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/16C30B19/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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