Werkstück mit einer Hohlstruktur, Verfahren zum Zumindest Teilweisen Bilden einer Hohlstruktur, Spiegel und Lithographiesystem
EP4710149
21. November 2024
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4710149
- Anmeldetag
- 12. Mai 2023
- Veröffentlichung
- 21. November 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/08, G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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