Komplementäre Gate-Schneidstecker zur Belastungsoptimierung

EP4716409 25. März 2026

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4716409
Anmeldetag
1. August 2025
Veröffentlichung
25. März 2026
Rechtsraum
EP
Offizieller Volltext

Abstract

An integrated circuit (IC) device having complementary dielectric plugs separating gate electrodes. An IC device includes a first gate-cut plug of silicon and nitrogen between and in contact with two gate structures of transistors of a first conductivity type and a second gate-cut plug between and in contact with two gate structures of transistors of a second conductivity type, complementary to the first conductivity type, and the second gate-cut plug has within a liner of silicon and nitrogen either an airgap or a dielectric of silicon and oxygen. Pairs of gate structures of transistors having both of the first and second conductivity types are separated by first and second gate-cut plugs.

Anmelder

Firma
INTEL Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

26.648 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen