Komplementäre Gate-Schneidstecker zur Belastungsoptimierung

EP4716409 25. März 2026

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4716409
Anmeldetag
1. August 2025
Veröffentlichung
25. März 2026
Rechtsraum
EP
Offizieller Volltext

Abstract

An integrated circuit (IC) device having complementary dielectric plugs separating gate electrodes. An IC device includes a first gate-cut plug of silicon and nitrogen between and in contact with two gate structures of transistors of a first conductivity type and a second gate-cut plug between and in contact with two gate structures of transistors of a second conductivity type, complementary to the first conductivity type, and the second gate-cut plug has within a liner of silicon and nitrogen either an airgap or a dielectric of silicon and oxygen. Pairs of gate structures of transistors having both of the first and second conductivity types are separated by first and second gate-cut plugs.

Anmelder

Firma
INTEL Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

8.816 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

  • Samson & Partner Patentanwälte mbB

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