Statischer Direktzugriffspeicher mit Komplementären Feldeffekttransistoren
Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4718966
- Anmeldetag
- 28. Juli 2025
- Veröffentlichung
- 1. April 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
Embodiments herein relate to a Static Random-Access Memory (SRAM) cell having a four-level complementary-field effect transistor (CFET) structure. In an example implementation, a first, bottom level includes one or more n-channel metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (nMOSs), a second level includes one or more pMOS transistors, a third level includes one or more pMOS transistors and a fourth, top level includes one or more nMOS transistors. The transistors can be connected using conductive paths which extend in bottom metal layers, top metal layers and intermediate metal layers between the two pMOS levels. In an example implementation, a six-transistor memory cell is provided.
Anmelder
- Firma
- INTEL Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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