Verfahren und System zum Trainieren eines Vorhersagemodells zur Erzeugung einer Zweidimensionalen Elementdarstellung eines Maskenmusters
EP4720774
5. Dezember 2024
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4720774
- Anmeldetag
- 3. Mai 2024
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/70, G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven