Verfahren zur Herstellung eines Optischen Abbildungssystems für eine Mikrolithographievorrichtung
EP4720776
28. November 2024
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4720776
- Anmeldetag
- 21. Mai 2024
- Veröffentlichung
- 28. November 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949 Patente in unserer Datenbank