Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen von Wafern

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP4722639

Anmeldetag

25. Januar 2023

Veröffentlichung

8. April 2026

Rechtsraum

EP

IPC

G01B9/02091(BOEHMER CARL et al.)(MARX DAVID S et al.)

Abstract

Eine Vorrichtung (14) zum Vermessen von Wafern (10) umfasst einen optischen Kohärenztomographen (22), der einen Messlichtstrahl (24) erzeugt und über ein optisches System (38) auf den Wafer (10) richtet, und eine Scaneinrichtung (26), die den Messlichtstrahl (24) in zwei Raumrichtungen ablenkt. Eine Steuereinheit (36) steuert die Scaneinrichtung (26) so, dass der Messlichtstrahl (24) die Oberfläche des Wafers (10) nacheinander an mehreren Messpunkten abtastet. Zwei Messpunkte haben dabei einen Abstand d<max> mit 140 mm ≤ d<max>≤ 600 mm. Eine Auswerteeinheit (57), berechnet aus von dem optischen Kohärenztomographen (22) bereitgestellten Interferenzsignalen Abstandswerte und/oder Dickenwerte. Zusätzliche Maßnahmen wie z.B. eine Kalibriermessung sind vorgesehen, um Messfehler zu verringern, die Folge einer von der Scaneinrichtung verursachten Feldkrümmung sind.

Anmelder

Firma

Precitec Optronik GmbH

Land

🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete