Resistmaterial, Strukturbildungsverfahren und Struktur

EP4722810 28. November 2024

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4722810
Anmeldetag: 22. Mai 2024
Veröffentlichung: 28. November 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004, G03F7/20, G03F7/029

Offizieller Volltext

Abstract

To provide a novel resist material containing a polyacid salt, a pattern forming method, and a patterned structure.

Anmelder

Firma: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von