Verschlussanordnung für einen Lithographischen Apparat
EP4730034
22. April 2026
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4730034
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 22. April 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00
Abstract
The invention provides a shutter assembly for use in a lithographic apparatus that comprises a shutter and an actuator device for moving the shutter between a closed position and an opened position, wherein an opening duration during which the shutter is moved from the closed position to the opened position differs from a closing duration during which the shutter is moved from the opened position to the closed position.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven