Zusammensetzung zur Bildung eines Schutzfilms für Waferkanten, Verfahren zur Bildung eines Schutzfilms für Waferkanten und Strukturierungsverfahren
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4730035
- Anmeldetag
- 9. Oktober 2025
- Veröffentlichung
- 22. April 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/16, G03F7/40, C08G65/40(SHIGAKI SHUHEI et al.)(MERCK PATENT GMBH et al.)(SHINETSU CHEMICAL CO et al.)
Abstract
The present invention is a composition for forming a wafer-edge-protection film for forming a wafer-edge-protection film on a peripheral edge of a substrate, including a polymer (A) represented by the following general formula (1) and a solvent. In the formula (1), "W" represents -SO<sub>2</sub>-, -C(=O)-, or -O-; R<sub>1</sub>, R<sub>2</sub>, R<sub>3</sub>, R<sub>4</sub>, and R<sub>5</sub> each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms, or a hydroxy group; and "a", "b", "c", "d", and "e" each independently represent an integer of 0 to 4. This can provide a composition for forming a wafer-edge-protection film capable of providing a wafer-edge-protection film that can exhibit excellent dry etching resistance and excellent uniform coatablity, even on a wafer edge that is difficult to be coated.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.