Nanobandbasierte Vorrichtung mit Separaten Gate- und Source- oder Drainkontakten

EP4730958 22. April 2026

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4730958
Anmeldetag
22. September 2025
Veröffentlichung
22. April 2026
Rechtsraum
EP
IPC
(LEE KYEN-HEE et al.)(RACHMADY WILLY et al.)(TOKYO ELECTRON LTD et al.)
Offizieller Volltext

Abstract

Nanoribbon-based devices with separate gate, source, and/or drain contacts can enable forming multiple devices having one or more independent contacts from different nanoribbons in a stack. In one example, an integrated circuity structure includes a stack of two or more nanoribbons, a gate electrode material at least partially around portions of the two or more nanoribbons, and source or drain regions, where discontinuities (e.g., including an insulator material) may be present between portions of the gate electrode material and/or between portions of the source or drain regions. Independent contact structures may be coupled with the separate portions of the gate electrode material and/or with the separate portions of the source or drain regions.

Anmelder

Firma
INTEL Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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