Verfahren zum Bereitstellen eines Prozessgases für einen Cvd-Reaktor und Diesbezügliche Vorrichtung
EP4735663
2. Januar 2025
Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4735663
- Anmeldetag
- 18. Juni 2024
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Aixtron SE
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Aixtron
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
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