Verfahren und Vorrichtung zur In-Situ-Messung der Temperatur eines Wafers im Vakuum
EP4736211
2. Januar 2025
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4736211
- Anmeldetag
- 28. Mai 2024
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven