Verfahren zur Herstellung eines Synthetischen Quarzglassubstrats
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4737416
- Anmeldetag
- 20. Oktober 2025
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03C15/02, B24B1/00, B24B7/00(SHINETSU CHEMICAL CO et al.)
Abstract
Provided is a method for producing a synthetic quartz glass substrate, including an evaluation step of evaluating a depth of a machining damaged layer at a machined surface of a synthetic quartz glass substrate, and a removal step of removing the machining damaged layer on the basis of a result of evaluation of the depth of the machining damaged layer. A machining damaged layer is removed on the basis of evaluation of the depth of the machining damaged layer at a machined surface. The machining damaged layer can be reliably and efficiently removed, and the productivity of a synthetic quartz glass substrate can be improved.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP