Verfahren zur Herstellung eines Synthetischen Quarzglassubstrats

EP4737416 6. Mai 2026

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4737416
Anmeldetag
20. Oktober 2025
Veröffentlichung
6. Mai 2026
Rechtsraum
EP
IPC
C03C15/02, B24B1/00, B24B7/00(SHINETSU CHEMICAL CO et al.)
Offizieller Volltext

Abstract

Provided is a method for producing a synthetic quartz glass substrate, including an evaluation step of evaluating a depth of a machining damaged layer at a machined surface of a synthetic quartz glass substrate, and a removal step of removing the machining damaged layer on the basis of a result of evaluation of the depth of the machining damaged layer. A machining damaged layer is removed on the basis of evaluation of the depth of the machining damaged layer at a machined surface. The machining damaged layer can be reliably and efficiently removed, and the productivity of a synthetic quartz glass substrate can be improved.

Anmelder

Firma
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Vertreten von

  • Mewburn Ellis LLP

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