Elektrostatischer Objektträger und Verfahren zu Seiner Herstellung
EP4741921
13. Mai 2026
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4741921
- Anmeldetag
- 6. November 2024
- Veröffentlichung
- 13. Mai 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00, H01L21/683(NIKON CORP et al.)
Abstract
Disclosed is an electrostatic object support for supporting an object. The electrostatic object support comprises a base layer; an electrode on said base layer and at least one dielectric layer extending fully over the electrode, wherein the at least one dielectric layer comprises a first coated dielectric sub-layer being comprised of a first dielectric material and a second coated dielectric sub-layer being comprised of a second dielectric material.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven