Substrathalter

EP4745666 20. Mai 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4745666
Anmeldetag
14. November 2024
Veröffentlichung
20. Mai 2026
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00, H01L21/683(NAKIBOGLU GÜNES et al.)(LEE SANG KEE et al.)
Offizieller Volltext

Abstract

A substrate support configured to support a substrate. The substrate support, comprises a main body. The main body has a first side configured to support the substrate, and a second side opposite to the first side. A plurality of grooves is formed in the main body. The plurality of grooves comprises a first groove and a second groove longer than the first groove. The first groove is configured to impede a flow of fluid through the first groove in a first direction and to allow the flow of fluid through the first groove in a second direction, opposing the first direction.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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