Aktuator für eine Lithografische Vorrichtung

EP4752627 3. Juni 2026

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4752627
Anmeldetag
27. November 2024
Veröffentlichung
3. Juni 2026
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00, H02K41/03
Offizieller Volltext

Abstract

An actuator (26) comprising a first magnetic assembly attached to a long stroke module (22) and comprising at least two first permanent magnets (36), a second magnetic assembly attached to a short stroke module and comprising at least one second permanent magnet (38). The first and second magnetic assemblies are configured to support the short stroke module with respect to the long stroke module (22) in a first direction (z). The second magnetic assembly is located between the first permanent magnets (36). The actuator includes an electrically conductive element (40) connectable to a power supply. The first magnetic assembly is longer than the second magnetic assembly in a second direction (x) to enable relative displacement of the short stroke module against the long stroke module (22), and the first magnetic assembly is geometrically configured such that a substantially homogeneous parallel magnetic field is provided.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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