Sensorsystem und Verfahren zur Ausrichtung
EP4752628
3. Juni 2026
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4752628
- Anmeldetag
- 27. November 2024
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00, G03F9/00
Abstract
The present disclosure provides a sensor system, comprising: a first sensor for determining a position of an aerial image as formed by a projection system, the first sensor comprising at least one first grating (66), and a detector (64) configured to record first radiation (82) transmitted through the first grating (66); and a second sensor (AS) for detecting second radiation (94) as reflected from the at least one first grating (66).
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven